要说现在世界上最精细的机器,荷兰ASML公司造的极紫外光刻机(EUV)肯定算一个,简直像奇迹一样。这种机器可是全球芯片产业的关键,现在成了大国科技竞争的主战场。而中国在这场竞争中,走出了一条从被限制到自己搞创新的特别路子。
全球光刻机市场,特别是高端极紫外光刻机(EUV)这块,基本上就几家大公司说了算。荷兰的阿斯麦(ASML)在这个领域里是最牛的,全球就它能造最先进的EUV光刻机。
2019年那会儿,美国政府使劲给荷兰政府施压,要求ASML公司停止向中国出售最先进的极紫外光刻机(EUV)。打那以后,制裁的强度是一波接着一波,越来越大。等时间来到2024年,荷兰政府又出台了新的出口管控规定,把对光刻机的管理范围给扩得更宽了。按照这些新规定,ASML公司只有拿到荷兰政府给的出口许可,才能把特定型号的浸润式DUV光刻机卖给中国。
到了2024年初,ASML的财务老大说了,7nm及以上先进制程的光刻机,基本上已经不卖给中国了。到了2025年10月,ASML宣布第一台第二代光刻机卖给了美国的英特尔,由于技术方面被设了门槛,中国厂商没办法买到那些最尖端的设备。
不过呢,面对这样的技术限制,中国半导体产业没有退缩,而是决定自己加快创新的步伐。就像ASML的CEO温宁克讲过的:“想要彻底把中国排除在外,那根本做不到。中国有14亿人口,这里面聪明才智的人多了去了,他们肯定能想出我们还没考虑到的法子。”
很明显,技术限制反而可能让中国更有动力去自己创新。这些年,中国在光刻机及相关领域取得了不少进步。上海微电子现在可是国内独一份能造高端前道光刻机的企业。他们研发的90纳米光刻机,已经能批量生产了,而且28纳米的技术研发也接近大功告成。
在光刻机关键部件的研发上,中科院给大家带来了一个振奋人心的消息:他们自主研发的全固态深紫外光源技术有了重大突破。这项技术是利用一种特殊的晶体放大器来产生激光,好处可不少,设备体积比之前小了30%,能耗也降了50%,理论上来说,它完全能满足3纳米芯片制造的需求。另外啊,晶瑞电材也不甘示弱,已经成功研发出了适用于7纳米制程的光刻胶,南大光电的光刻胶产品也通过了客户的严格检验和认证。
国家出台的政策以及不断增长的市场需求,成了推动中国光刻机产业链发展的强大“引擎”。光刻机研发制造被明确纳入“十四五”规划里的重点项目。为了助力其发展,地方政府也积极行动,拿出了超过50亿元的资金来配套支持,而且在税收方面,给整个光刻机产业链上的企业都提供了优惠政策。
与此同时,市场对光刻机的需求呈现出迅猛增长的态势。据相关预测,到2025年的时候,中国光刻机市场的规模将会突破600亿元,而且每年的复合增长率能超过30%呢。
未来三年,中美在光刻机领域的竞争会集中在两个趋势上:一方面,国产替代的进程会不断推进,深度也会持续加强。具体来说,在成熟制程的设备这块儿,咱们的目标是实现全面国产化,让这些设备都完全用上咱们自己的技术。
同时呢,在先进制程方面,咱们也得下功夫,争取在个别特别关键的环节上取得突破。另外啊,全球的供应链现在正面临着新的变化和调整。中国说不定会通过“一带一路”这些渠道,把光刻机中低端的生产能力推广出去,这样就能构建一个更加独立自主、自己能说了算的半导体产业生态圈啦。
ASML的温宁克也说了:“西方国家想通过限制技术流动和施加压力来阻止中国发展,是不可能的,反而激发中国的自主创新能力。”
在光刻机领域这一赛道上,中国正凭借自身实力向世界表明:外部的技术限制或许会在短期内让我们的发展脚步缓一缓,但绝对不可能阻挡中国坚定不移迈向自主创新之路的决心和进程。