华星光电取得掩模板专利，以低成本地实现高PPI的掩模板
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2025-12-09 05:40:31
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国家知识产权局信息显示，武汉华星光电技术有限公司取得一项名为“掩模板”的专利，授权公告号CN223633438U，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本实用新型提供一种掩模板，掩模板包括基板以及设置于基板的一侧的掩膜层，基板上设置有阵列排布的多个第一开口，掩膜层在对应每个第一开口的位置设置有掩膜图案，每个掩膜图案包括与所述第一开口连通的多个通孔，掩膜层包括层叠交替设置的至少一层金属层以及至少一层无机层；如此，通过在基板上设置层叠交替设置的至少一层金属层以及至少一层无机层，可采用蚀刻工艺同时形成第一开口和掩膜图案，以低成本地实现高PPI的掩模板。
天眼查资料显示，武汉华星光电技术有限公司，成立于2014年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1191853.7749万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电技术有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目668次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可263个。
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来源：市场资讯
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