舜宇光学申请液晶布拉格增亮增透偏光片专利，有利于降低模组成本
创始人
2026-06-21 11:33:57
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国家知识产权局信息显示，舜宇光学（浙江）研究院有限公司申请一项名为“液晶布拉格增亮增透偏光片及其制备方法和电子设备”的专利，公开号CN122239214A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本申请提供了一种液晶布拉格增亮增透偏光片及其制备方法和电子设备，其能够在不叠加宽带四分之一波片的情况下，透射一种线偏光，并反射另一种线偏光，以便在液晶显示背光模组中起到增透增亮的效果，有利于降低模组成本。该液晶布拉格增亮增透偏光片，包括：配向单元；和多个布拉格结构单元，依次叠置于该配向单元的一侧；其中每个该布拉格结构单元包括相互叠置的第一向列相液晶层和第二向列相液晶层，并且该第一向列相液晶层的非寻常光折射率和厚度分别不同于该第二向列相液晶层的非寻常光折射率和厚度，用于透射第一线偏光，并反射与该第一线偏光的偏振方向垂直的第二线偏光。
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